​​如何用DUV光刻机造出7nm芯片？​​
中芯国际的N+2工艺通过三次图形化曝光，将28nm DUV光刻机的物理极限推向新高度。这套方案的关键在于​​双重自对准技术​​与​​超薄栅极控制​​的结合，使晶体管密度达到每平方