​​当上海微电子宣布28nm DUV光刻机进入量产时，整个半导体产业屏住了呼吸——这台设备的极限分辨率标注着10nm，但工程师们正在尝试用四重曝光技术挑战5nm工艺。这种看似疯狂的实验，正在改写全球芯片制造业的游戏规则

​​国产光刻机现在能做到什么水平？​​
上海微电子最新交付的28nm DUV光刻机，实测分辨率达到38nm，单台设备月产能突破2000片晶圆。​​最关键的套刻精度控制在3.2nm以内​​，接近ASML TWINSCAN NXT:2000i的水平。在华